词语
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又称为单光束斑点干涉法；主要是利用同调光（如雷射光）照射物体，藉由物体表面高低起伏，使反射或散射的光，彼此间形成光程差，而在空间形成建设性或破坏性干涉，这种现象称为斑点场。如将物体变形前及变形后的斑点场同时用底片记录下来，则底片上将会有一群迭合交错的斑点，由于此组斑点会形成无数个隙缝孔径，当重建光照到此张底片时，我们会往屏幕上看到如杨氏干涉实验中的干涉条纹，利用这些条纹就可以计算出物体的变形量，此种方法即为斑点照相术。此种安排方式，对面外位移量的量测较不敏锐，不但本身是一种非破坏检测方法，且设备简易，防震要求也不高，故是一种量测利器。此法本身对面上变形量的量测非常敏锐，其量测范围大约在10～700μm之间，乃介于全像干涉术与传统迭放干涉术之间。如同时利用错离焦距(misfocus)技巧可得其位移导数，并可量测物体平面振动大小。